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文献链接：下月Scalable,highlystableSi-basedmetal-insulatorsemiconductorphotoanodesforwateroxidationfabricatedusingthin-filmreactionsandelectrodeposition(NatureCommunication，下月2021，10.1038/s41467-021-24229-y)本文由材料人CYM编译供稿。国务（b）H2和O2气体的理想（虚线）和测量（实线和符号）的演变。
（c）在-1.3V和1MKOH溶液中，省实地索Ni电沉积Ni/90nmSiO2/n-Si光阳极在-1.0和-2.0V的48hCA稳定性测试。（e，区市f）在SiO2/Si表面上的Ni覆盖率与电沉积时间的函数关系。在电沉积过程中，征集Ni覆盖暴露的Si表面，导致分散的Ni在SiO2表面的相应位置生长。
这些结果证明了一种低成本、面问高度可扩展的方法来制造高效且非常稳定的光阳极，面问该方法适用于大规模商业制造，并且适用于各种催化剂、绝缘体和半导体材料。（d）-0.5、题线-1.0和-2.0V的偏压下电沉积60分钟后，Ni在SiO2/Si表面上的尺寸分布。
近日，定对1督查 美国得克萨斯大学奥斯汀分校EdwardT.Yu和LiJi（通讯作者）展示了一种低成本且高度可扩展的策略，定对1督查以制备高性能和稳定性好的Si基MIS光阳极，基于铝（Al）通过绝缘氧化物层的薄膜反应，然后是镍（Ni）电沉积，从而不需要任何光刻图案。
下月周围的氧化物区域保持电绝缘并保留其保护功能。国务相关成果以Light,strong,andstablenanoporousaluminumwithnativeoxideshell发表在ScienceAdvances上。
【成果简介】近日，省实地索中国科学院金属研究所的金海军研究员（通讯作者）等人发现韧带（微柱）尺寸减小到亚微米或纳米尺度时，省实地索其表面自发形成的氧化铝纳米壳层可稳定存在，并提高材料强度。本文由材料人Materials_1219供稿，区市材料牛整理编辑。
氧化层、征集韧带尺寸和拓扑结构的综合影响是这种材料具有高强度（和高比强度）的原因。纳米多孔Al-Al2O3复合材料也比脱合金制备的大多数纳米多孔金属更轻、面问更强和更稳定。